Меню Рубрики

Установка плазменной очистки diener electronic nano

Установка плазменной очистки Nano

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

  • мелкосерийное производство
  • аналитика (SEM, TEM)
  • медицина
  • стерилизация
  • исследования
  • археология
  • обработка текстиля
  • полупроводники
  • обработка пластиков

Особенности

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров

Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.

Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)

Газовые линии — до 3 шт. (игольчатые глапана или MFC)

Характеристики

Тип установки плазма низкого давления
Вакуумная камера цилиндрическая, около 18 литров: Ø 240 мм, глубина 400 мм
прямоугольная, около 24 литров: 240 х 240 х 420 мм
Материал камеры Боросиликатное стекло или кварцевое стекло или нержавеющая сталь
Подвод газа до 3-х газовых линий с игольчатым клапанов или MFC
Генератор плазмы 40 кГц, до 1000 Вт
13,56 МГц, до 300 Вт
2,45 ГГц, до 600 Вт
Контроль Ручной
PCCE-Control (Microsoft Windows CE ) — PLC
PC-Control (Microsoft Windows XPe ) — PC
Производительность вакуумного насоса сухой насос или лопастной по выбору
Подключение 220 В, 50 Гц или 400В, 3 фазы (в зависимости от конфигурации)

Видеопрезентация установки Nano

Видеопрезентация фирмы Diener

Запросить предложение можно по ссылке или направив нам письмо по адресу info@minateh.ru

Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м 3 /час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м 3 /час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

источник

Что такое плазма?

Здесь применяются наши плазменные установки

При непрерывной подаче энергии в материю температура материи повышается, и она переходит из твердого через жидкое в газообразное состояние. Если продолжать подавать энергию, то существующая атомная оболочка разорвется и возникнут заряженные частицы (отрицательно заряженные электроны и положительно заряженные ионы). Эта смесь называется плазмой или четвертым агрегатным состоянием.

Коротко: изменение агрегатного состояния за счет подачи энергии:

твердое ⇒ жидкое ⇒ газообразное ⇒ плазма

В природе плазма встречается, например, в молниях, северном сиянии, огне и солнце. Искусственно созданная плазма известна, кроме прочего, из неоновых трубок, процессов сварки и осветительных вспышек.

Плазма используется в процессах, заключающихся в соединении материалов или целенаправленном изменении свойств их поверхностей. Эта инновационная технология позволяет модифицировать самые разнообразные поверхности. Возможности ее применения достаточно широки:

  • Сверхтонкая очистка малых и микроскопических деталей
  • Активация пластмассовых деталей перед склеиванием, окрашиванием и т.п.
  • Подтравливание и частичное удаление различных материалов – PTFE, фоторезиста и т.д.
  • Нанесение на детали PTFE-подобных, барьерных, гидрофобных и гидрофильных слоев, антифрикционных покрытий и т.д.
Читайте также:  Установка гибкого дхо в фару

На сегодняшний день плазменная техника получила распространение почти во всех промышленных областях. Постоянно открываются новые сферы применения.

Imagefilm
Посмотреть видео

Наши установки

Плазменные установки атмосферного давления

В плазменной технике атмосферного давления газ под действием высокого напряжения при давлении окружающей среды возбуждается до состояния воспламенения плазмы. Плазма вытесняется из сопла струей сжатого воздуха. Различают два эффекта воздействия плазмы:

Активация и особо тонкая очистка выполняются реактивными частицами, присутствующими в луче плазмы.

Плазменные установки низкого давления

В плазменной технике низкого давления газ за счет подачи энергии возбуждается в вакууме. Возникают высокоэнергетические ионы и электроны, а также другие реактивные частицы, формирующие плазму. Это позволяет эффективно изменять свойства поверхностей.

Автоматические плазменные установки

Короткотактная установка может быть оптимально интегрирована в существующую производственную линию. Полностью автоматизированная короткотактная установка также исключит потенциальные ошибки управления.

Специальные установки

Мы изготавливаем плазменные установки, адаптированные к индивидуальным потребностям заказчиков. Установки проектируются в соответствии с указанными критериями.
Познакомиться с нашими специальными установками можно здесь.

Системы и аксессуары

Наши плазменные установки могут быть дополнены разнообразными опциями и принадлежностями. Познакомиться с опциональным оснащением и аксессуарами можно здесь.

Установки для нанесения париленовых покрытий

Уникальные свойства парилена

  • Абсолютное постоянство толщины слоя вне зависимости от геометрии поверхности
  • Отсутствие пропусков и просветов начиная с толщины менее 1мкм
  • Крайне высокая способность проникать в зазоры
  • Недостижимые барьерные свойства (в частности, Parylene C)
  • Нерастворимость
  • Соответствие требованиям к натуральности продуктов питания и биосовместимости
  • Отсутствие воздействия на окружающую среду
  • Предельно высокая термостойкость (Parylene F-AF4)

Аренда

Если производителю нецелесообразно покупать плазменную установку, ее можно арендовать у нас.

Мы предлагаем индивидуальные решения

Мы изготавливаем плазменные установки, адаптированные к индивидуальным потребностям заказчиков. При создании концепций принимаются во внимание следующие факторы:

  • ожидаемый объем материалов;
  • размер обрабатываемых деталей.

Размер специальной плазменной установки зависит от объема камеры, определяемого требованиями заказчика. Установки могут оснащаться автоматической дверцей, сдвижной дверцей или вращающимся барабаном для использования в серийном производстве. Наши заказчики действуют в четырех основных областях применения плазменной техники: очистка, активация, травление и нанесение покрытий. В списке реализованных проектов – специальные установки практически любых размеров. От Tetra — 30 — LF с объемом камеры 30 литров до Tetra -12600 — LF — PC с камерой на 12 600 литров.

Наши конкурентные преимущества – профессиональный консалтинг и индивидуальная работа с клиентами. Мы всегда стремимся найти оптимальное решение, соответствующее всем индивидуальным потребностям заказчика. Мы не только производитель и поставщик плазменных установок, но, прежде всего, провайдер услуг и компания, решающая любые проблемы в области плазменной обработки поверхностей.

Инновационный потенциал для поиска новых решений

Мы действуем предельно быстро и гибко. Новые тренды в технике, меняющиеся требования рынка и особые пожелания заказчиков представляют для нас не проблему, а скорее стимулирующий вызов. С его помощью мы постоянно совершенствуем наши продукты, расширяем сферу их действия и открываем совершенно новые области применения техники для плазменной обработки поверхностей.

Diener electronic позаботится о Вас наилучшим образом

Воспользуйтесь нашим многолетним опытом разработки технологий, создания концепций и производства плазменных установок. Наши специалисты помогут оптимизировать Ваши рабочие процессы. Получите доступ к нашим ноу-хау и уникальному ассортименту продуктов и услуг из мира плазменной обработки поверхностей.

Автомобильная техника

Потребительские товары

Медицинская техника

Гелиотехника

Текстильная промышленность

Часовая и ювелирная промышленность

Упаковочная промышленность

Примеры применения

НОВОСТИ

Look behind the scenes

Diener Electronic is an international market leader in the manufacture of plasma systems. At an event organized by the Nagold Adult Education Center.

Zeller School Nagold vocational training info day

In the Zeller School in Nagold, the apprentices’ day took place on 17 July.

We got the chance to present three of the eight apprenticeships offered.

Интегрированные установки

Установки с плазменным колоколом, используемые для поточной автоматической обработки в вакууме. Носитель материала с обрабатываемыми изделиями автоматически вводится в камеру (колокол), после чего активируется плазменный процесс. Такая установка может быть оптимально интегрирована в существующую производственную линию.
Процесс состоит из следующих стандартных этапов: закрытие камеры, создание вакуума, подача технологического газа, воспламенение плазмы, открытие камеры
Типичная продолжительность циклов составляет 1 минуту, 30 или 15 секунд. Короткотактные установки всегда используются при полностью автоматическом производстве продукта и необходимости предварительной обработки поверхности в точно определенном месте. Процессы плазменной очистки и активации обычно используются для обработки перед склеиванием, заливкой и упаковыванием. Короткотактная установка сочетает в себе качество цикличной обработки партиями со скоростью поточного производства. Также она исключает ошибки управления.

Видео: интегрированные установки
Посмотреть видео

источник

Плазменная очистка

Установка плазменной очистки низкого давления модели Yocto производства Diener electronic (Германия).

Применение:
очистка, активация

Читайте также:  Установка кнопки противотуманных фар приора

Камера: около Ø50 мм, глубина 150 мм
Вакуумный насос — 0,75 м 3/ час
Ганератор 100 кГц, 30 Вт
Управление: ручное
Газовая линия — 1 шт.

Установка плазменной очистки низкого давления модели Yocto производства Diener electronic (Германия).

Применение:
очистка, активация

Камера: около Ø50 мм, глубина 150 мм
Вакуумный насос — 0,75 м 3/ час
Ганератор 100 кГц, 30 Вт
Управление: ручное
Газовая линия — 1 шт.

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Zepto производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, от 1,7 до 2,6 литра
Вакуумный насос
Ганератор: 100 кГц, до 30 Вт, 40кГц, до 100 Вт, 13,56 МГц, до 30 Вт., 13,56 МГц, до 200 Вт
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м 3 /час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели ATTO производства Diener electronic (Германия).

Применение: Исследовательские работы, очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы)

Камера: цилиндрическая, около 10,5 литра
Вакуумный насос, 3 или 5 м 3 /час
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 200 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 2 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Femto производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 2 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 200 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Pico производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 5 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 300 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Nano производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (мелкосерийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, около 18 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 1000 Вт или 13,56 МГц, до 300 Вт или 2,45 ГГц, до 600 Вт.
Управление: ручное или автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (игольчатые глапана или MFC)

Читайте также:  Установка круиза bmw e60

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт.
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 30 / Tetra 100 / Tetra 150 производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы), создание гидрофобных и гидрофильных покрытий, карбонизация, снятие и подчистка фоторезста

Камера: цилиндрическая или прямоугольная, 30/100/150 литров
Вакуумный насос на выбор
Ганератор 40 кГц, до 2500 Вт или 13,56 МГц, до 600 Вт или 2,45 ГГц, до 1200 Вт.
Управление: автоматическое (PLC или PC)
Газовые линии — до 3 шт (MFC)

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия).

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.

Установка плазменной очистки низкого давления модели Tetra 2800 производства Diener electronic (Германия).

Производственная установка Tetra 2800-LF-PC с объемом камеры 2800 литров и компьютерным управлением используется в серийном производстве (очистка, травление и активация).

Применение: очистка, активация, травление (серийные процессы)

Шкаф распределительного устройства: Ш 600 мм, В 1700 мм, Г 800 мм
Камера: ∅ 1200 мм, Г 2500 мм
Объем камеры: прибл. 2800 литров
Подвод газа: 3 газовых канала через регуляторы массового расхода (РМР)
Генератор: 1 штука (40 кГц) (в виде опции: 13,56 МГц или 2,45 ГГц)
Управление: компьютерное управление (Windows) с промышленной шиной Fieldbus.

Установка плазменной очистки низкого давления модели серии DENTALPLUS производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация для улучшения адгезии
Установки применяются в стоматологических лаботаториях, стоматологической хирургии.

Установка плазменной очистки низкого давления модели серии DENTALPLUS производства Diener electronic (Германия).

Применение: очистка, активация для улучшения адгезии
Установки применяются в стоматологических лаботаториях, стоматологической хирургии.

Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).

Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:

— ожидаемое количество проходящего материала
— величина обрабатываемых деталей

Специальные установки плазменной очистки низкого давления модели производства Diener electronic (Германия).

Diener electronic изготавливает плазменные установки с учетом ваших индивидуальных потребностей. Установки разрабатываются с учетом следующих критериев:

— ожидаемое количество проходящего материала
— величина обрабатываемых деталей

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия).

Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.

Установка плазменной очистки при атмосферном давлении серии PlasmaBeam производства Diener electronic (Германия).

Генератор атмосферной плазмы „plasma system PlasmaBeam“ рассчитан, главным образом, на локальную предварительную обработку (очистку, активацию) различных поверхностей:

полимерных
металлических
керамических
стеклянных
из комбинированных материалов

„Plasma system PlasmaBeam“ может устанавливаться в существующие автоматические производственные линии без больших затрат.

Система плазменной очистки — это предварительная обработка поверхности перед нанесением фоторезиста, вакуумного напыления, склеивания, пайкой и микросваркой.

В процессе плазменной очистки поверхность материала подвергается химической реакции с ионизированными газами. Свободные радикалы газа взаимодействуют с загрязнением на поверхности, преобразуются в газовую фазу и далее удаляются. Такой способ позволяет достичь сверхточной очистки чувствительных поверхностей, что повышает ее адгезию.

Для повышения адгезии производится активация поверхности с помощью плазмы. При активации поверхности, образец необходимо подвергнуть обработке в течение нескольких минут. Качество активации может проверяется тестовыми чернилами в зависимости от того, как они наносятся.

Плазменная очистка металлов применяется для получения поверхности, не содержащей оксидов. Применяются два различных метода:

  1. Удаление органического слоя

Удаляется несколько нанометров за один цикл

Для плазменной очистки пластмасс, стекла и керамики процесс проходит так же как для металла, но следует учитывать такие параметры как скорость и расстояние.

Установки плазменной очистки низкого давления производства Diener electronic в зависимости от модели применяются в исследовательских работах, очистки, активации, травлении, снятии фоторезиста и создании гидрофобных покрытий.

источник