Сдвоенная система высокоскоростного и плазменного напыления
Высокоскоростное напыление ТСЗП-HVOF-K2
Высокоскоростное напыление ТСЗП-HVAF-AK07
Высокоскоростное напыление ТСЗП-GLC-720
Плазменное напыление, плазмотроны
Плазменная наплавка
Электродуговая металлизация
Газопламенное проволочное напыление ТСЗП-MDP-115
Газопламенное порошковое напыление
Газопорошковая наплавка
Промышленные роботы
Шумозащитные камеры
Предложение для образовательных учреждений
суперфинишные приставки LOESER
Установка для создания плазменного покрытия используется в энергетическом и авиационном машиностроении для создания керамических функциональных покрытий.
ТСЗП MF-P-1000 работает на смеси газов: основной — аргон, дополнительный — азот, водород или гелий.
Расход плазмообразующих газов, л/мин
аргон
До 100
азот
До 100
водород
До 50
гелий
До 20
Расход транспортирующего газа (аргон, азот), л/мин
До 30
Производительность, кг/ч:
при напылении оксидов и карбидов
3. 10
при напылении металлов и сплавов
2. 5
Пористость покрытия, %
12
Адгезия, МПа
Более 50
Толщина напыляемого слоя, мм:
при напылении металлов и сплавов
0,05. 20
при напылении керамики
0,05. 5
Состав оборудования
Система управления установкой — на базе контроллера Simatic S7-300
Система управления смонтирована в пылезащищенном шкафу
Модульная система контроллера позволяет использовать огромный спектр дополнительных коммуникационных и функциональных модулей, которые расширяют возможности ЦПУ.
Установка управляется с панели оператора. На ней отображаются параметры протекающих процессов, и осуществляется их контроль. Машинные данные преобразуются в кривые, гистограммы и графические объекты, которые меняют свой вид в зависимости от выбранной программы и от состояния процесса. Кроме того, выводимые на панель сообщения о неисправностях, обеспечивают оператора важной информацией о состоянии управляемой установки. С нее могут контролироваться все технологические параметры процесса, и в памяти могут оставаться до ста технологических программ.
Пульт управления установкой плазменного напыления
Габаритные размеры
Длина, мм
620
Ширина, мм
620
Высота, мм
1700
Блок газоподготовки для подачи газа в плазмотрон
Блок газоподготовки включает:
Металлические газовые линии
Датчик давления для каждого газа
Отдельные микрофильтры и электромагнитные клапаны для каждого газа
Детекторы утечки газа
Электронные расходомеры Bronkhorst El-Flow
Блок управления сжатым воздухом для охлаждения детали
Управление сжатым воздухом для охлаждения детали
Контроль расхода охлаждающей жидкости
Все данные с блока газоподготовки выводятся на панель оператора. Плазмообразующие газы: аргон, водород, азот, гелий. Система позволяет работать с одним или двумя плазмообразующими газами.Транспортирующий газ: аргон
Блок коммутации
В блоке коммутации установлены датчики температуры воды, протока воды и осциллятор. Крепиться вертикально на стену.
Габаритные размеры
Длина, мм
760
Ширина, мм
360
Высота, мм
720
Источник питания плазмотрона PPC 2002
Источник постоянного тока PPC 2002 выполнен по принципу высококачественного инвертирования постоянного тока, что обеспечивает плавное нарастание тока дуги.
Техническая характеристика
Ток дуги, А
10. 1000
Напряжение, В
40. 80
Режим ПВ, %
100
Сетевое питание, В
3×380
Потребляемая мощность, кВт
105
Сечение питающего привода, мм 2
4х95
Класс защиты
1P21
Расход потока воздуха от встроенного вентилятора, м 3 /с
1
Класс изоляции
F
Габаритные размеры
Длина, мм
1300
Ширина, мм
850
Высота, мм
1150
Масса, кг
850
Холодильник VWK-270/1-S
Техническая характеристика
Теплосьем, Вт
36 400
Температура воды на выходе, °С: минимальная максимальная
15 25
Максимальная температура окружения воздуха, °С
37
Питающее напряжение, В
3x380V, 50Hz
Потребляемая мощность, кВт
12,9кВт
Потребляемый ток, А
34
Объем дистиллированной воды, м 3
250
Габаритные размеры
Длина, мм
1000
Ширина, мм
1000
Высота, мм
2000
Масса полностью заправленного водой холодильника, кг
450
Порошковый дозатор PF 2/2
Порошковый дозатор состоит из двух миксеров, двух бункеров, двух дисковых приводов регулирования подачи порошка. Газовая система питателя составлена из предохранительных клапанов, двух ротаметров, электромагнитных вентилей, шлангов и дросселей.
Управление работой осуществляется на базе контроллера Simatic S7-300.
Питатель порошка может работать в автономном режиме или управляться с центральной панели оператора.
Емкость бункеров (колб) может быть 1,5 или 5 литров — их количество и объем оговаривается при подписании договора.
Техническая характеристика
Вместимость бункеров (колб), л
1,5 или 5
Питающее напряжение
220
Мощность, кВт
1,5
Расход транспортирующего газа, л/мин
До 30
Производительность одной колбы до 6 кг/час в зависимости от типа порошка.
Габаритные размеры
Длина, мм
620
Ширина, мм
620
Высота, мм
1500
Холодильник PC — 250
Техническая характеристика
Теплосьем, Вт
35 000
Температура воды на выходе, °С: минимальная максимальная
12 25
Максимальная температура окружения воздуха, °С
37
Питающее напряжение, В
3×400
Потребляемая мощность, кВт
12
Потребляемый ток, А
28
Объем дистиллированной воды, м 3
250
Габаритные размеры
Длина, мм
1470
Ширина, мм
890
Высота, мм
1700
Масса полностью заправленного водой холодильника, кг
430
Технические характеристики плазмотронов
Плазмотрон F4
Модель F4 – одна из самых распространенных. Доступны различные разъемы для подключения водяного охлаждения. Установка может поставляться с ручкой для ручного напыления. Устройство универсально с точки зрения широты задаваемых параметров — материала, твердости, пористости и шероховатости.
Обычно эксплуатируются с плазменными установками мощностью до 55 Квт.
Для повышения качества напыления могут применяться различные сопла.
Обычно эксплуатируются с плазменными установками мощностью до 55 Квт
Обычно эксплуатируются с плазмообразующими газами Ar/H2, для некторых материалов могут применяться смеси Ar/He, Ar/N2 или N2/H2;
Для увеличения качества напыления используются различные сопла: сопла Лаваля позволяют напыление с более высокими эффективностью и коeффициэнтом использования при пониженном уровне шума.
Техническая характеристика плазмотрона F4
Максимальная мощность, кВт
55
Плазмообразующие газы
Аргон, водород, азот, гелий
Давление на входе, МПа: аргон водород азот
0,5 0,7 0,5
Расход, л/мин: азот аргон водород
До 50 До 100 До 20
Ток , А
До 800
Охлаждение
Водяное
Расход воды, л/мин
До 12
Производительность напыления, кг/ч
До 5
Плазмотрон F6
Аттестован авиацией, основан на классической модели F4. При сохранении базовой геометрии и основных параметров напыления, улучшенная система охлаждения позволяет существенно повысить производительность и продлить ресурс анода/катода. Кроме того, все части выполнены из бронзы, без применения пайки. Быстросъемные соединения позволяют осуществлять замену электродов за секунды. Фитинги шлангов водяного охлаждения соединены с базовой пластиной и не повреждаются в процессе замены электродов.
Для повышения качества напыления используются различные сопла.
Обычно эксплуатируются с плазменными установками мощностью до 55 Квт
с плазмообразующими газами Ar/H2, для некоторых материалов могут применяться смеси Ar/He, Ar/N2 или N2/H2;
Для увеличения качества напыления используются различные сопла: сопла Лаваля позволяют напыление с более высокими эффективностью и коeффициентом использования материала при пониженном уровне шума.
Плазмотрон Delta
Использование трех анодов и одного катода позволяет объединить преимущества всех известных технологий. Стабильная дуга обеспечивает производительность до 300 грамм порошка в минуту.
Модель дельта состоит из сопла, каскада, малоизнашиваемого контактного электрода и треханодного сегмента. Основной компонент легко заменяется. Это позволяет сокращать потери времени и оптимизировать плазмотрон под различные операции за счет замены сопел.
Благодаря эффективности и высокой производительности, используется для напыления покрытий на большие поверхности. Для мелких деталей не подходит в связи с большим пятном распыления.
Сравнение плазмотронов Delta со стандартными:
F4 / F6 / P2:
Единственная дуга
различные диаметры сопел
колебание напряжения +/-20V.
Delta:
Одна каскадируемая дуга, стабилизированная как аксиально, так и радиально
колебание напряжения +/-3V.
Постоянная передача плазменной энергии радиально впрыскиваемым частицам порошка. Дуга равномерно распределяется на три анода.
Не требуется корректировка положения порошковых инжекторов в зависимости от параметров напыления, т. к. положение трех оснований анодов сбалансировано радиально.
Обычно эксплуатируются с плазменными установками мощностью до 70 Квт
Обычно эксплуатируются с плазмообразующими газами Ar/H2, для некторых материалов может применяться смесь Ar/He;
Благодаря высокой производительности и эффективности рекомендуется для напыления покрытий на большие поверхности. Не лучший выбор для маленьких деталей — довольно большое пятно распыления.
Плазмотрон P2
Размещение анода и катода полностью совпадают, что позволяет использовать базовые параметры напыления. Главное преимущество установки — компактность, которая достигается за счет короткого электрода. Нестандартный дизайн позволяет избежать негативных последствий как для продолжительности жизни электрода, так и для качества плазмы. Рекомендуется увеличение температуры для максимизации продолжительности работы. Стоит отметить, что катоды и аноды стоят значительно дешевле, чем для F4.
Обычно эксплуатируются с плазменными установками мощностью до 55 Квт
Обычно эксплуатируются с плазмообразующими газами Ar/H2, для некторых материалов могут применяться смеси Ar/He, Ar/N2 или N2/H2;
Для увеличения качества напыления используются различные сопла: сопла Лаваля позволяют напыление с более высокими эффективностью и коeффициэнтом использования при пониженном уровне шума.
Плазмотрон F1
Общепринятая в авиации установка для осуществления напыления в отверстиях.
Обычно эксплуатируется с плазмообразующими газами Ar/H2. Совместим с плазменными установками мощностью до 500 А
Минимальный диаметр — 80 мм.
Обычно эксплуатируются с плазменными установками мощностью до 500 А
Обычно эксплуатируются с плазмообразующими газами Ar/H2,
Минимальный диаметр — 80 мм
Предназначен для напыления внутренних поверхностей диаметром от 90 мм.
Техническая характеристика плазмотрона F1
Максимальная мощность, кВт
25
Плазмообразующие газы
Аргон, водород, азот
Давление на входе, МПа: аргон водород азот
0,5 0,7 0,5
Расход, л/мин: азот аргон водород
До 40 До 80 До 15
Ток дуги плазмы, А
До 500
Охлаждение
Водяное
Расход воды, л/мин
До 10
Производительность напыления, кг/ч
До 3
Плазмотрон F7, для внутреннего напыления
Установка разработана для напыления внутренних поверхностей.
Отличается улучшенным энергопотреблением, обычно используется при силе тока до 600 A.
Есть возможность охлаждения обрабатываемой детали воздушными соплами, которые встроены непосредственно в устройство. Минимальный диаметр напыляемого отверстия — 90 мм.
Улучшенное по сравнению с F1 энергопотребление, обычно используется при силе тока до 600 A
Возможность охлаждения напыляемой детали воздушными соплами, встроенными в плазмотрон;
Минимальный диаметр напыляемого отверстия — 90 мм
Плазматрон SG-100
Мощность изменяется в зависимости от выбранных катода и анода. Максимальная величина – 80 кВт.
Комплектуется удлинителем для напыления внутренних поверхностей.
